公平交易委員會102年3月6日第1113次委員會議決議，荷蘭商負擔不禁止ASML Holding N.V.（下稱ASML）擬透過其100%間接持股孫公司Kona Technologies LLC（下稱KT）與Cymer進行合併之結合案，KT為存續公司、Cymer為消滅公司，向公平會提出結合申報乙案，依公平交易法第12條第2項規定，附加負擔不予禁止。

公平會表示，ASML主要製造半導體製程設備中的微影設備，Cymer主要製造光微影光源予微影設備製造商整合至微影設備，因國內廠商目前仍無生產此類關鍵設備的能力，國內半導體晶片製造商均需向國外業者進口，故本案所涉產品市場應為「全球微影設備市場」與「全球光微影光源市場」。查全球微影設備製造商計有ASML、Canon及Nikon等3家，全球光微影光源製造商僅有Cymer與Gigaphoton Inc.（下稱GPI）等2家，因微影設備及光微影光源技術層級較高，有資本進入之門檻，該等市場原屬寡占結構，ASML於全球微影設備市場占有率雖達6~7成，然市場上尚有Canon及Nikon等業者參與該市場之競爭，且微影設備係以研發先進技術取勝，況其交易相對人主要為半導體國際大廠，具有議價之地位與能力，光微影光源之選購主要由半導體業者選擇，渠等交易決定主要以技術及製程規劃為考量因素，難謂本案結合後，ASML有濫用市場力量之可能。又本結合係為整合研發EUV微影光源之技術與資金，EUV技術之量產仍不明確，且據結合申報書所載，本案結合後，Cymer雖消滅，然合併後之KT將以獨立的商業營運形式存在，維持原Cymer與Nikon及Canon之交易關係；且ASML將提供搭載不同光源之光微影設備予半導體晶片製造商，故難謂有產生封鎖效果之可能性。

公平會進一步表示，EUV光源科技為促成半導體晶片製造業發展的核心推力，屬極端複雜與高成本的光源科技，該光源科技尚未商業化，若EUV科技發展順利，將可提升半導體晶片製造之技術與效能，本結合案對於技術升級確有其正面效益，對國內整體經濟效益亦應屬正面。惟考量本案結合後，原與ASML交易之半導體業者，因技術能力與穩定性考量，轉換交易相對人可能性低，恐會指定採用Cymer光微影光源，影響使用者對GPI或Cymer的採購決策，限縮選擇之權利，造成業者投資成本之增加，或因光源搭載自由度受限而影響微影設備之競爭，公平會仍應透過附加行為管制的必要負擔，進一步消弭可能產生的限制競爭不利益，並確保整體經濟利益。

公平會經綜合評估，決議附加負擔不禁止結合，附負擔之內容包括參與結合事業不得以損害特定事業為目的，對該特定事業斷絕供給、購買或其他交易行為；不得不正當限制交易相對人與其獨家交易；不得不正當限制交易相對人與其他非參與結合事業交易之選擇自由；無正當理由不得拒絕供應商品予其水平競爭之非參與結合事業暨無正當理由不得對非參與結合事業之交易相對人給予交易、維修、技術支援及零件更換等差別待遇。